Soluciones industriales de semiconductores electrónicos
1. Múltiples sistemas de filtración de carbono de medios\/activados:
En la industria manufacturera
Los filtros multimedia se usan típicamente en la etapa inicial del tratamiento de agua, eliminando efectivamente los sólidos suspendidos, coloides, partículas y diversas impurezas del agua a través de una combinación de medios múltiples, proporcionando agua limpia para el tratamiento posterior. Este paso es crucial para proteger los equipos de procesamiento posteriores y mejorar la eficiencia general del procesamiento.
Los filtros de carbono activados se utilizan principalmente para eliminar la materia orgánica, los olores, los pigmentos y otras impurezas del agua. El carbono activado tiene una fuerte capacidad de absorción, que puede absorber y eliminar contaminantes del agua, mejorando así la pureza del agua. Este paso es crucial para garantizar la calidad y estabilidad del agua ultrapura.
Al combinar filtros multimedia y filtros de carbono activados, puede eliminar de manera efectiva la mayoría de las impurezas del agua para un tratamiento avanzado adicional (como la ósmosis inversa, el intercambio de iones, etc.), proporcionando una buena calidad básica. Esto ayuda a garantizar la calidad y estabilidad del agua ultrapura requerida en el proceso de producción de la industria electrónica de semiconductores, para mejorar el rendimiento y la confiabilidad del producto.
Principios técnicos
El principio de la tecnología de filtrado multimedia es principalmente utilizar uno o más medios de filtrado para la filtración profunda para eliminar las impurezas líquidas en el agua. Cuando el agua cruda pasa a través del material del filtro de arriba a abajo, se retiran partículas grandes en la capa superior, mientras que las partículas pequeñas se retiran más profundamente en el medio del filtro. Esto depende principalmente de la absorción y la resistencia mecánica de la capa del material del filtro, así como de la compacidad de la disposición de las partículas de arena, lo que hace que las partículas en el agua sean más propensas a chocar con las partículas de arena y se bloquean. Después de este tratamiento, el líquido en el agua se puede mantener en unnivel más bajo para garantizar la claridad de la calidad del agua.
El principio técnico de los filtros de carbono activados se basa principalmente en la absorción de carbono activado. El carbono activado tiene una gran área superficial y una estructura compleja de poros, lo que le da una fuerte capacidad de absorción. Cuando el agua pasa a través de un filtro de carbono activado, la materia orgánica, el olor, el color y otros contaminantes en el agua son absorbidos por la superficie del carbono activado y eliminados de manera efectiva. Además, el carbono activado también puede eliminar el cloro del agua para garantizar el funcionamientonormal de los equipos de tratamiento posteriores.
¿Qué logros podemos lograr?
En primer lugar, los filtros multimedia se utilizan como dispositivos de preprocesamiento, y su diseño de múltiples medios combinados les permite eliminar de manera efectiva los adhesivos, partículas y grandes impurezas del agua. Esto es crucial para proteger los equipos y procesos de tratamiento de agua posteriores para garantizar la operación estable de todo el sistema de tratamiento de agua. A través de este paso, se puede proporcionar agua limpia inicial para la industria electrónica de semiconductores, reduciendo el impacto potencial de las impurezas en el proceso de producción.
En segundo lugar, el carbono activado del filtro utiliza su fuerte capacidad de absorción para eliminar aún más las impurezas como la materia orgánica, el olor y el pigmento del agua. Si estas impurezasno se eliminan, pueden tener efectos adversos en la calidad y el rendimiento de los productos de semiconductores electrónicos. La aplicación de la filtración de carbono activada puede mejorar en gran medida la pureza del agua y cumplir con los requisitos estrictos de la industria de semiconductores electrónicos de alta calidad.
2. Sistema de ultrafiltración:
Y en producción
En primer lugar, durante el proceso de limpieza, la membrana puede eliminar efectivamente las partículas y los iones del agua, sirviendo como un proceso de tratamiento de agua ultra puro de alta calidad. Este tipo de agua ultrapura se usa para limpiar equipos y dispositivos de semiconductores, asegurando que la superficie del producto esté limpia y evite el impacto de los contaminantes en el rendimiento y la confiabilidad del producto.
En segundo lugar, la tecnología de ultrafiltración se usa comúnmente para fabricar líquidos. En el proceso de fabricación de semiconductores, esnecesario utilizar fluidos técnicos como ácidos, potasio, solventes orgánicos, etc. Las membranas de ultrafiltración pueden filtrar y limpiar líquidos, eliminar impurezas y partículas, y garantizar que la calidad y la pureza de los líquidos cumplan con el líquido cumplan con .
Además, la tecnología de filtración ultrasónica también juega un papel importante en la circulación del agua de enfriamiento de los equipos. El equipo de fabricación de semiconductores genera una gran cantidad de calor durante la operación y requiere agua de enfriamiento para enfriar el calor. La membrana de ultrafiltración puede eliminar las partículas e iones del agua de enfriamiento, evitar impurezas de un equipo dañino, garantizar el funcionamientonormal del equipo y garantizar la estabilidad del producto.
Principios técnicos
El principio técnico de los filtros ultrasónicos se basa principalmente en procesos de separación de membrana controlados por presión. Elnúcleo es usar una membrana semi permeable de diámetro especial llamada membrana ultrafiltración para evitar pesos coloides, partículas y moleculares relativamente altos en el agua, mientras que el agua y las pequeñas partículas de solvente pueden penetrar la membrana.
La membrana de ultrafiltración tiene un alargamiento de 20 a 1000 A grados, una distancia de filtración de 0.002 pm a 0.2 pm, y puede inhibir efectivamente las partículas con un diámetro superior a 0.02 pm, como proteínas, pectina, grasas y bacterias. Los diferentes materiales y estructuras de las membranas de filtro tienen diferentes efectos y aplicaciones, por lo que debe elegir una membrana de filtro que sea adecuada paranecesidades de aplicación específicas. Al mismo tiempo, las condiciones de trabajo como la presión, la velocidad y la temperatura también pueden afectar el efecto de ultrafiltración y requieren un control optimizado.
¿Qué tipo de resultados podemos lograr?
En primer lugar, el sistema de filtración ultrasónica proporciona agua purificada. En el proceso de fabricación de semiconductores electrónicos, existe una alta demanda de calidad del agua, y cualquier pequeña impureza puede afectar seriamente la calidad y el rendimiento del producto. El sistema de ultrafiltración adopta la capacidad de filtración de alta eficiencia, que puede eliminar efectivamente partículas, gel, bacterias y otras impurezas en el agua, garantizar la pureza del agua en el proceso y cumplir con los requisitos de alta calidad en el proceso de producción de semiconductores electrónicos.
En segundo lugar, ultrafiltración Los sistemas pueden proteger el equipo de producción. Debido al hecho de que los sistemas de ultrafiltración pueden proporcionar agua pura para el proceso, ayuda a reducir los problemas de calidad causados por la corrosión y la suciedad en los equipos de fabricación, extendiendo así la vida útil del equipo y reduciendo los costos de mantenimiento.
Además, los sistemas de filtración también pueden ayudar a mejorar la eficiencia de producción. Al garantizar la calidad y la estabilidad del agua durante el proceso, los sistemas de ultrafiltración pueden reducir la calidad del producto causada por las interrupciones de producción y los problemas de calidad, asegurando la continuidad y la estabilidad del proceso de producción y la mejora de la eficiencia de producción.
Finalmente, los sistemas de filtración también contribuyen a crear el medio ambiente y el desarrollo sostenible. Al eliminar efectivamente los contaminantes del agua, los sistemas de ultrafiltración pueden reducir la dificultad y el costo del tratamiento de aguas residuales, y minimizar su impacto en el medio ambiente. Mientras tanto, la aplicación de sistemas de ultrafiltración también ayuda a impulsar la industria electrónica de semiconductores hacia métodos de fabricación más ecológicos y sostenibles.
3. Sistema de membrana de ósmosis inversa:
En la industria manufacturera
Membranas de ósmosis inversa En la industria de semiconductores se utilizan principalmente en el proceso de producción del agua ultrapura. En el proceso de fabricación de semiconductores electrónicos, el agua ultrapura se usa ampliamente para limpiar componentes importantes, como chips de silicio y chips, eliminando de manera efectiva las partículas de superficie y la materia orgánica, y reducir las tasas de escasez de productos. Las membranas de ósmosis inversa pueden proporcionar agua desionizada estable y de baja tensión, cumpliendo con los requisitos de alta calidad de la industria de semiconductores.
Además, la tecnología de membrana de ósmosis inversa también puede proporcionar agua limpia de alta calidad para garantizar la confiabilidad y estabilidad de los componentes. Al utilizar las características de las membranas de ósmosis inversa, puede controlar con precisión la calidad del agua y cumplir con los requisitos estrictos para el agua ultra pura en los procesos electrónicos de fabricación de semiconductores.
Principios técnicos
La membrana de ósmosis inversa suele ser una membrana semi permeable sintética con un tamaño muy pequeño, que puede prevenir impurezas de manera efectiva como la sal, la materia orgánica y los iones de metales pesados para descomponerse en agua, al tiempo que permite que las moléculas de agua pasen. Si se aplica una presión mayor que la presión osmótica en un lado de la solución gruesa, el disolvente fluirá en la dirección opuesta a la dirección osmótica original y comenzará a fluir desde la solución gruesa hasta el lado de la solución diluida. Este proceso se llama ósmosis inversa. En este punto, el disolvente bajo presión pasa a través de la membrana de ósmosis inversa, y la solución está bloqueada por la membrana para lograr la separación y la pureza.
¿Qué logros podemos lograr?
En primer lugar, las membranas de ósmosis inversa pueden eliminar efectivamente impurezas como bacterias, materia orgánica y metales del agua, asegurando la calidad y la estabilidad del agua ultrapura. Este agua de alta pureza es esencial en el proceso de fabricación de semiconductores electrónicos, utilizado para limpiar componentes importantes como silicio y papas fritas, eliminar efectivamente las partículas de superficie y la materia orgánica, reducir las tasas de defectos del producto y, por lo tanto, mejorar la calidad y el rendimiento del producto.
En segundo lugar, el uso de la tecnología de membrana de ósmosis inversa ha ralentizado los cambios en la calidad del agua causados por las fluctuaciones de calidad del agua, lo que facilita la estabilidad de la calidad del agua en la producción. Esto tiene un efecto positivo en la estabilidad de calidad de los productos de agua ultrapura, lo que ayuda a garantizar la producción de calidad de productos semiconductores.
En resumen, la aplicación de membranas de ósmosis inversa en la industria electrónica de semiconductores puede lograr la eficiencia de producción del agua ultrapura, garantizar la estabilidad y la confiabilidad de la calidad del producto y ayudar a reducir los costos de producción y la contaminación ambiental.
4. Sistema EDI:
Y en producción
Los sistemas EDI o los sistemas de deionización electrónica se utilizan ampliamente en la industria de semiconductores. Se utiliza principalmente para fabricar agua ultrapura.
En el proceso de fabricación de semiconductores, el agua ultrapura se usa para muchos procesos clave, como la limpieza de componentes clave, como chips y chips de silicio, así como la base de preparación de otros fluidos tecnológicos. El sistema EDI puede utilizar la tecnología de membrana de intercambio de iones y la tecnología de migración de electrones para eliminar los iones y otras impurezas del agua, produciendo agua ultrapura de alta pureza.
Específicamente, los sistemas EDI pueden eliminar los iones del agua, como el sodio, el calcio, el magnesio, el cloruro, el sulfato y los aniones, lo que resulta en una conductividad muy baja en el agua y cumple con los altos requisitos de calidad del agua en los procesos de fabricación de semiconductores. Además, debido a su capacidad efectiva de eliminación de iones, los sistemas EDI también pueden reducir la frecuencia de regeneración y el consumo químico requerido en los procesos tradicionales de intercambio de iones, reduciendo los costos operativos y los impactos ambientales.
Principios técnicos
Los principios técnicos de los sistemas EDI se basan principalmente en la tecnología de membrana de intercambio iónico y la tecnología de migración de electrones.
Bajo la influencia del campo DC, los iones dieléctricos en la partición del sistema EDI se mueven en la dirección. Las membranas de intercambio de iones pueden pasar selectivamente a través de los iones, permitiendo que algunos iones pasen y evitando que otros pasen a la calidad del agua limpia. En este proceso, la resina de intercambio iónico se regenera continuamente por la electricidad, por lo queno haynecesidad de regeneración de ácido y potasio.
Específicamente, el módulo EDI sujeta la unidad EDI llena con resina de intercambio iónico entre las membranas de intercambio iónico\/negativo a la unidad EDI, que está separada por un panel de malla para formar una cámara de agua y agua dulce. Después de colocar el ánodo\/cátodo en ambos extremos de la pieza, la corriente continua empujará los iones positivos ynegativos que fluyen a través de la membrana de intercambio de iones correspondiente en la cámara de almacenamiento de agua para eliminar estos iones en la cámara de agua dulce. El agua en la cámara de agua engrosada puede alejar los iones del sistema y producir agua engrosada.
¿Qué tipo de resultados podemos lograr?
El sistema EDI puede generar efectivamente agua ultrapura. En el proceso de fabricación de semiconductores, el agua ultrapura es un elemento de fabricación importante para la limpieza de componentes centrales, como chips y chips de silicio, y también es la base para preparar otros fluidos tecnológicos. El sistema EDI adopta la eficiencia de eliminación de iones, que puede eliminar los iones, la materia orgánica e impurezas del agua, asegurando la calidad y la estabilidad del agua ultrapura y cumplir con los altos requisitos de la calidad de producción de semiconductores.
Además, el sistema EDI controlado es fácil de escalar hacia arriba y hacia abajo,no requiere regeneración y tiene ventajas como la calidad del agua estable. Su suministro de agua cumple con los requisitos de la situación y puede garantizar que la calidad del agua continúe produciendo una tasa de resistencia al agua de ≥ 15m Omega.
5. Sistema de pulido de cama:
Y en producción
El pulido de la mezcla de la cama en la industria de semiconductores se utiliza principalmente en el proceso de producción del agua ultrapura.
Limpieza de chips: en el proceso de fabricación de chips, se genera una serie de impurezas después de químicos\/físicos, corrosión, hornear y otros procesos. Para eliminar estas impurezas y garantizar la efectividad del chip, esnecesario limpiarlo con agua ultrapura.
Producción de materiales semiconductores: el agua ultra pura puede eliminar las impurezas en la superficie de los materiales semiconductores, garantizar los requisitos de pureza de los materiales semiconductores y mejorar efectivamente el rendimiento y la confiabilidad de los chips semiconductores.
En estos pasos técnicos, el agua ultrapura se utiliza para limpiar el equipo y el equipo de semiconductores, asegurando la limpieza de las superficies del producto y evitando el impacto de los contaminantes en el rendimiento y la confiabilidad del producto. El sistema de mezcla de cama de pulido puede eliminar efectivamente los iones y la materia orgánica del agua, asegurando que la calidad del agua cumpla con altos estándares en la industria de los semiconductores.
Principios técnicos
El principio técnico del mezclador de pulido se basa principalmente en el principio del intercambio iónico. Este tipo de plástico es un compuesto de polímero compuesto por grupos especiales de intercambio de iones que pueden exhibir la función de intercambio de iones en el agua.
En las aplicaciones de la industria de semiconductores, las camas mixtas se utilizan principalmente para preparar agua ultrapura. Cuando el agua cruda que contiene iones de impureza pasa a través del plástico, los grupos de intercambio de iones en el intercambio de plástico con estos iones de impureza, absorbiéndolos en el plástico y liberando iones que son inofensivos para el proceso. A través de este método, los iones de impureza en el agua cruda se eliminan de manera efectiva a través del intercambio iónico de la resina, para obtener agua de alta pureza.
¿Qué tipo de resultados podemos lograr?
En primer lugar, garantiza la calidad del agua ultrapura. El agua ultra pura es muy importante en el proceso de fabricación de semiconductores electrónicos. El pulido mixto puede eliminar efectivamente el agua ionizada, la materia orgánica y otras impurezas, garantizar la calidad y la estabilidad del agua ultrapura y cumplir con la calidad de producción de semiconductores electrónicos de alta calidad.
El pulido de la cama mixta también ayuda a mejorar la eficiencia de producción. Debido a su alta eficiencia de intercambio iónico y su rendimiento estable, puede reducir las interrupciones de producción y mantenimiento de equipos causadas por problemas de calidad del agua, asegurando la continuidad y la estabilidad del proceso de producción.