¿Qué son las plantas de tratamiento de agua en semiconductores electrónicos?

¿Por qué la industria de los semiconductores electrónicosnecesita una planta de tratamiento de agua?

El proceso de producción de productos semiconductores electrónicos tiene altos requisitos de calidad del agua. La fabricación de materiales semiconductores implica reacciones químicas y procesos físicos precisos. Las impurezas, iones, microorganismos, etc. en el agua pueden contaminar los productos y afectar el rendimiento, la estabilidad y la confiabilidad de los productos. Por lo tanto, senecesita equipo de tratamiento de agua para eliminar diversas impurezas del agua y garantizar la pureza del agua de producción.

Por ejemplo, en la industria de semiconductores electrónicos, el equipo de agua ultrapura WTEYA elimina eficazmente diversas impurezas, iones y microorganismos en el agua a través de una serie de altas-precisión y alta-Procesos de tratamiento tecnológicos como filtración preliminar por adsorción, purificación por ósmosis inversa e intercambio iónico de resina, asegurando la producción de agua ultrapura con resistividad extremadamente alta. Esta agua ultrapura se utiliza ampliamente en procesos clave como la limpieza, el grabado, la fabricación de películas y el dopado en la fabricación de semiconductores, y es un factor clave para garantizar el rendimiento y la calidad de los productos semiconductores.

¿Qué planta de tratamiento de agua se utiliza en la industria de semiconductores electrónicos?

1. Múltiples-medios de comunicación/sistema de filtración de carbón activado:

Multi-Los filtros de medios se utilizan generalmente como etapa inicial del tratamiento del agua. Mediante la combinación de diferentes medios, pueden eliminar eficazmente impurezas como materia suspendida, coloides y partículas en el agua, proporcionando una fuente de agua relativamente limpia para procesos de tratamiento posteriores.

Los filtros de carbón activado se utilizan principalmente para eliminar materia orgánica, olores, pigmentos y otras impurezas del agua. El carbón activado tiene una fuerte capacidad de adsorción y puede adsorber y eliminar estos contaminantes en el agua, mejorando así aún más la pureza de la calidad del agua.

2. Sistema de ultrafiltración:

Primero, en el proceso de limpieza, la membrana de ultrafiltración puede eliminar eficazmente partículas e iones en el agua como proceso de pretratamiento para alta-Sistemas de agua ultrapura de calidad. Esta agua ultrapura se utiliza para limpiar dispositivos y equipos semiconductores para garantizar la limpieza de la superficie del producto y evitar el impacto de los contaminantes en el rendimiento y la confiabilidad del producto.

En segundo lugar, la tecnología de ultrafiltración también se utiliza habitualmente en la preparación de líquidos de proceso. En el proceso de fabricación de semiconductores, se requieren diversos líquidos de proceso, como ácidos, álcalis, disolventes orgánicos, etc. Las membranas de ultrafiltración WTEYA pueden filtrar y purificar estos líquidos, eliminar impurezas y partículas y garantizar que la pureza y calidad de los líquidos cumplan con la producción. requisitos.

Además, la tecnología de ultrafiltración también juega un papel importante en la circulación del agua de refrigeración del equipo. Los equipos de fabricación de semiconductores generan mucho calor durante su funcionamiento y se requiere agua de refrigeración para la disipación del calor. Las membranas de ultrafiltración pueden eliminar partículas e iones en el agua de refrigeración, evitar que las impurezas dañen el equipo y garantizar el funcionamientonormal del equipo y la estabilidad del producto.

3. Sistema de membrana de ósmosis inversa:

Las membranas de ósmosis inversa se utilizan principalmente en los pasos del proceso de preparación de agua ultrapura en la industria de los semiconductores. En el proceso de fabricación de semiconductores electrónicos, el agua ultrapura se utiliza ampliamente para limpiar componentes clave como obleas y chips de silicio, que pueden eliminar eficazmente partículas superficiales y materia orgánica y reducir las tasas de defectos del producto. Las membranas de ósmosis inversa pueden proporcionar estabilidad y baja-tensión de agua desionizada para cumplir con los altos requisitos de la industria de semiconductores en cuanto a la calidad del agua.

Además, la tecnología de membranas de ósmosis inversa también puede proporcionar una alta-Agua de limpieza de calidad para garantizar la fiabilidad y estabilidad de los componentes. Al utilizar las características de las membranas de ósmosis inversa, se puede lograr un control preciso de la calidad del agua para cumplir con los estrictos requisitos del agua ultrapura en el proceso de fabricación de semiconductores electrónicos.

4. Sistema EDI:

El sistema EDI, es decir, el sistema de electrodosionización, se utiliza ampliamente en la industria de los semiconductores. Se utiliza principalmente en los pasos del proceso de preparación de agua ultrapura.

En el proceso de fabricación de semiconductores, el agua ultrapura se utiliza en múltiples pasos clave del proceso, como la limpieza de componentes clave como obleas y chips de silicio, y como base para la preparación de otros líquidos del proceso. El sistema EDI puede eliminar eficazmente iones y otras impurezas del agua mediante tecnología de membrana de intercambio iónico y tecnología de electromigración iónica, preparando así alta-pureza del agua ultrapura.

Específicamente, el sistema EDI puede eliminar iones del agua, como iones metálicos como sodio, calcio y magnesio, y aniones como cloro y sulfato, de modo que la conductividad del agua es extremadamente baja, cumpliendo con los altos requisitos de calidad del agua en El proceso de fabricación de semiconductores. Al mismo tiempo, debido a su eficiente capacidad de eliminación de iones, el sistema EDI también puede reducir la frecuencia de regeneración y el consumo de productos químicosnecesarios en el proceso tradicional de intercambio iónico, reduciendo los costos operativos y el impacto ambiental.

5. Sistema de pulido en lecho mixto:

Los lechos mixtos de pulido se utilizan principalmente en la industria de semiconductores para el proceso de preparación de agua ultrapura.

Lavado de virutas: En el proceso de fabricación de virutas, productos químicos/Se llevarán a cabo precipitación física, corrosión, horneado y otros procesos, que producirán diversas impurezas. Para eliminar estas impurezas y garantizar el rendimiento de las virutas, se requiere agua ultrapura para el lavado.

Preparación de materiales semiconductores: el agua ultrapura puede eliminar las impurezas de la superficie de los materiales semiconductores y garantizar los requisitos de pureza de los materiales semiconductores, mejorando así eficazmente el rendimiento y la confiabilidad de los chips semiconductores.

En estos pasos del proceso, se utiliza agua ultrapura para limpiar dispositivos y equipos semiconductores para garantizar la limpieza de la superficie del producto y evitar el impacto de los contaminantes en el rendimiento y la confiabilidad del producto. El sistema de pulido de lecho mixto puede eliminar eficazmente iones y materia orgánica del agua para garantizar que la calidad del agua cumpla con los altos estándares de la industria de semiconductores.

WTEYA es uno-detener el proveedor de servicios llave en mano para soluciones electrónicas de tratamiento de agua con semiconductores. En vista de las características de calidad del agua de la industria de semiconductores electrónicos, el sistema de tratamiento de agua logra un tratamiento y reutilización eficiente de los recursos hídricos mediante una combinación de sistema de filtración. + sistema avanzado de separación de membrana especial + sistema EDI + Pulido del sistema de lecho mixto, ayudando a las empresas a mejorar los beneficios económicos del reciclaje de recursos.